一种磁控溅射靶枪

（12）实用新型专利

（21）申请号 CN201520477129.1 （22）申请日 2015.07.04

（71）申请人 厦门烯成新材料科技有限公司

地址 361015 福建省厦门市火炬高新区创业园伟业楼南楼S301C室

（10）申请公布号 CN204779787U

（43）申请公布日 2015.11.18

（72）发明人 王振中 （74）专利代理机构

代理人

（51）Int.CI

权利要求说明书 说明书 幅图

（54）发明名称

一种磁控溅射靶枪

（57）摘要

本实用新型公开了一种磁控溅射靶枪，所

述磁控溅射靶枪为圆柱形磁控溅射靶枪，包括基座、磁靶和靶材，所述磁靶固定于基座之上，所述靶材通过旋转轴固定在磁靶上；所述磁靶包括磁芯和环状磁铁座，所述环状磁铁座上设有均匀排列的磁铁块，形成中心-外环的环状磁靶设计；所述磁芯和磁铁座环之间设有冷却装置，所述冷却装置包括上下两个无氧铜水冷以及位于上下两个无氧铜水冷之间的导热板。所述的磁控溅射靶

枪采用的独特的中心-外环的环状磁靶设计，使磁场全面覆盖靶材，提高靶材的利用率；采用上下两个无氧铜水冷之间设置导热板形成冷却装置，及时有效的将磁靶运转中产生的热量散发出去，保证其长期运转的稳定性，溅射均匀，以得到质量优良的薄膜。

法律状态

法律状态公告日2015-11-18 2015-11-18 2016-05-25 2016-05-25 2019-01-25

法律状态信息

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专利申请权、专利权的转移

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权利要求说明书

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说明书

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