专利名称：反射型光掩模及其制造方法专利类型：发明专利
发明人：渡边原太,井本知宏,福上典仁申请号：CN201480038079.5申请日：20140828公开号：CN105359255A公开日：20160224
摘要：反射型光掩模(10)具有基板(11)；形成在该基板(11)上的多层反射膜(12)，该多层反射膜反射平版印刷用的包含波长5nm以上15nm以下的光的曝光光；形成在该多层反射膜(12)上的吸收膜(14)，该吸收膜吸收曝光光且同时形成有电路图案(15)或者电路图案形成预定区域；在电路图案(15)或者电路图案形成预定区域的外周侧，通过除去基板(11)上的多层反射膜(12)和吸收膜(14)的一部分而形成的遮光区域(B)，该遮光区域遮蔽由多层反射膜(12)反射的曝光光的一部分；以及在该遮光区域(B)的露出的基板表面(11b)的一部分上以3000nm以下的间距形成的多个凸部(1)，该多个凸部抑制曝光光所含的入射到遮光区域(B)的带外光的反射，所述带外光具有140nm以上800nm以下的波长。
申请人：凸版印刷株式会社
地址：日本东京
国籍：JP
代理机构：北京天昊联合知识产权代理有限公司
更多信息请下载全文后查看
因篇幅问题不能全部显示，请点此查看更多更全内容