专利名称：开放式MRI成像系统用磁体结构专利类型：实用新型专利发明人：沈伟俊
申请号：CN201920506618.3申请日：20190416公开号：CN210982706U公开日：20200710
摘要：本实用新型涉及一种适合介入式扫描、诊断，治疗、实时监视的开放式MRI成像系统用磁体结构，MRI磁体由多块磁性单元构成有惯通缺口的拱形圆。优点：一是适合介入式诊断，实时监视,如脑手术(脑血管，神经阻断），脑植入治疗；二是磁体短，小；三是外漏磁场低，安装场地要求低，5高斯线：<1米；四是采用了永磁材料结构，系统维护成本低。
申请人：杭州佩伟拓超导磁体技术有限公司
地址：311100 浙江省杭州市余杭区杭州经济开发区泰极路3号2幢502C-47
国籍：CN
代理机构：杭州中平专利事务所有限公司
更多信息请下载全文后查看
因篇幅问题不能全部显示，请点此查看更多更全内容