专利名称：一种便于排水的基坑支护结构专利类型：实用新型专利发明人：唐捷,邓杰,阮衡申请号：CN202020113064.3申请日：20200117公开号：CN211873057U公开日：20201106
摘要：本实用新型涉及一种便于排水的基坑支护结构，其包括排水沟，所述排水沟位于基坑底部且在基坑底部沿其边缘延伸设置，所述排水沟内还设有水池，所述水池在排水沟内向下凹陷设置，所述水池内设有水泵，所述水泵将水池内的水集中排出。本实用新型具有使集水槽流入排水沟内的水可快速集中收集在一处方便排出，提高排水的效率的效果。
申请人：武汉正洪岩土工程有限公司
地址：430070 湖北省武汉市洪山区珞狮路248号
国籍：CN
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